WPŁYW DAWKI PREKURSORA PROCESU ALD W NA JAKOŚĆ WARSTW AR I AS WYKORZYSTYWANYCH TECHNOLOGIACH FOTOWOLTAICZNYCH
W pracy skupiono się na optymalizacji kluczowych parametrów procesu ALD w wielkoskalowym reaktorze produkcyjnym o rozmiarze 2200 × 1200 mm pozwalającym na jednoczesne pokrywanie warstwą tlenkową 10 tafli szklanych o grubości 4 mm.